SEN的卓上型光洗浄改質裝置利用特定波長的紫外線(主要是185nm和254nm)配合臭氧氧化作用,能有效去除物體表面的有機污染物,并改善其表面性能(如提高潤濕性、附著力)。這使得它在許多對清潔度要求高的領域非常有用。
為了讓你能快速了解,我用一個表格來匯總它的主要應用領域:
應用領域 | 具體應用場景 | 設備起到的主要作用 |
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電子與半導體制造 | 半導體封裝、液晶顯示器/觸摸屏生產、集成電路、高精度印制電路板(PCB) | 去除光刻膠、殘余溶劑等有機物,提高粘附性和封裝可靠性 |
光學器件與玻璃制造 | ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜版、拋光石英晶體 | 精密清洗處理,為鍍膜、粘貼等后續工序做準備,提升產品質量 |
汽車工業 | 汽車零部件涂裝(如塑料內飾、車燈)、車窗鍍膜與密封 | 固化涂層,提升耐磨性和美觀度;強化玻璃安全性能 |
印刷與包裝 | 塑料薄膜、紙張表面UV光油固化、標簽粘接 | 快速形成防潮耐磨的保護層,提高粘貼效率和質量 |
醫療器械 | 醫療器械裝配(如注射器、導管粘接)、牙科修復 | 確保醫用膠水快速可靠固化 |
科研與其它工業 | 硅片和帶有氧化膜的金屬的精密清洗處理、3D打印光敏樹脂固化、光纖連接器封裝 | 去除有機污染物,提升粘接和封裝質量,提高成型效率 |
?? 工作原理簡介
SEN卓上型光洗浄改質裝置主要通過以下方式工作:
光敏作用:裝置發出的185nm波長紫外線能被大多數碳氫化合物(有機污染物)吸收,使其分解成離子、游離態原子、受激分子等。
產生臭氧和原子氧:空氣中的氧分子在吸收185nm波長的紫外光后,會產生臭氧和氧氣。臭氧對254nm波長的紫外光有很強的吸收性,又可分解為原子氧和氧氣。
氧化分解污染物:具有強氧化性的原子氧,能將污染物中的碳氫化合鍵切斷,使其最終氧化成水、二氧化碳等易揮發氣體,并從表面逸出,從而達到清潔的目的。
?? 選購與使用注意事項
確認具體型號與規格:SEN有不同型號的卓上型光洗浄改質裝置(例如SSP16-110D,PL17-110),它們的照射面積、功率、功能側重可能有所不同。你需要根據你樣品的尺寸、處理通量以及具體需求(是更側重清洗還是表面改性) 來選擇最合適的型號。例如,SSP16-110D的照射尺寸約為160x160mm,適合小型樣品處理和研究用途。
關注設備特性:選擇設備時,需要注意其紫外光照度(直接影響處理效率)、照射面積的均勻性、是否具備高度調節功能(以優化處理距離)以及臭氧排放處理(涉及實驗室安全)等。
樣品適用性:雖然該技術能處理多種材料,但對于易氧化的金屬或特殊涂層,最好先進行小范圍測試,確認不會對材料本體造成不良影響。
安全操作:紫外線對眼睛和皮膚有傷害,產生的臭氧也需要有效排放。務必在封閉裝置中進行操作,并確保設備有良好的抽風排臭氧系統,操作人員應做好安全防護。
尋求專業咨詢:由于這類設備專業性較強,強烈建議在購買前與供應商或生產商的技術人員深入溝通,明確你的需求,他們能提供更準確的型號推薦、技術參數解讀以及設備效能評估。